感应激光体刻蚀法(edrt)是化学过程和物理过程共同作用的结果。
它的基本原理是在真空低气压下,ed射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈,以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电,产生高密度的激光,在下电极的rt射频作用下,这些等激光对基片表面进行轰击,基片图形区域的半导体材料的化学键被打断,与刻蚀气体生成挥发性物质,以气体形式脱离基片,从真空管路被抽走。
刘林看了看,把眉头都皱成一团,之前因为就大概的扫了两眼,没详细看,结于其难度可以说是很模糊,毕竟全部资料都是现成的,不需要设计,也不需要研发,跟着图纸制造出来就行了!
看来是自己想简单了!
刘林用手揉了揉,感觉发痛的太阳穴,吐了一口浊气,把资料往下翻!
刘苛等人看到刘林认真的在翻资料,便对着桌观上的配件再一次仔细观察,希望能找到问题出在哪。
ed设备主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。
预真空室:预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度,不受外界环境(如:粉尘、水汽)的影响,将危险性气体与洁净厂房隔离开来,它由盖板、机械手、传动机构、隔离门等组成。
刻蚀腔体:刻蚀腔体是ed刻蚀设备的核心结构,它对刻蚀速率、刻蚀的垂直度以及粗糙度都有直接的影响,刻蚀腔的主要组成有:上电极、ed射频单元、rt射频单元、下电极系统、控温系统等组成。
供气系统:供气系统是向刻蚀腔体输送各种刻蚀气体,通过压力控制器(p)和质量流量控制器(f)精准的控制气体的流速和流量。
真空系统:真空系统有两套,分别用于预真空室和刻蚀腔体。
刻蚀腔体就是现在桌子上卡动不弹不了的那组合件。
现在刻蚀腔体就把刘林给卡住了,后面还有曝光镜头,d相机等十几个同等难度的组合件呢。
rdd离子激光仪工艺技术精度是01μ!
刘林看到精度的时候,太阳穴不由的又跳了跳,要知道超级加工中心精度才0001,都是同一个级别了好吧。
卧槽
刘森差点爆了个粗口,太坑爹了吧,不出问题才就怪事了,以现在的工艺基本就加工不出来好吧。
超级加工中心还是自己用作弊手段才弄出来的好吧,现在想直接加工到01μ,想多了吧,晚上睡觉多放个枕头。
梦中什么都有了,刘林看到这,基本可以肯定不是自己技术不行,而是自己所用的设备,根本没办法把rdd离子激光仪制造出来。
因为不是一个层次的东西。
全世界有一家算有家,如果谁能制造出来,刘林直接叫他爹都行。
刘林瞄了眼好像还有最后一页,本来
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